КАТЕГОРИИ:
a. Очистка поверхности
b. Оксидирование поверхности
c. 4-я фотолитография
d. Диффузия фосфора. Получают области n+ типа проводимости, толщиной 0,2-2мкм.
13) Формирование окон под контакты к областям транзистора
14) Металлизация. После очистки на поверхность наносится слой Al.
15) Формирование межсоединений. 5-ая фотолитография по металлу.
16) Контроль готовых структур на пластине. Пластина передаётся в сборочную фазу производства.
Дата добавления: 2014-01-15; Просмотров: 385; Нарушение авторских прав?; Мы поможем в написании вашей работы!
Нам важно ваше мнение! Был ли полезен опубликованный материал? Да | Нет